一、項目工程概況與工程分析

    （一）項目背景

    本項目擬建于北京經濟技術開發(fā)區(qū)內。擬建設8英寸（20.32cra）0.35～0.18gm芯片（月投片30000片）；12英寸（30.48cm）先進制程線，0.13-0.09gm芯片（月投產3000片）。本項目建設期2年（2002-2003年，實際1.25年），試生產期2年，達產期4年，總投資為12.5億美元。

    （二）項目概況

    1.項目組成

    本項目由生產設施、動力設施、化學品設施、氣體設施、環(huán)保設施、安全衛(wèi)生設施、消防設施、管理服務設施以及相應的建筑物組成。芯片項目組成見表1.

    2. 總平面布置

    廠區(qū)總平面效果見圖1.

    二，環(huán)境概況

    1.地理位置

    廠址位于北京經濟技術開發(fā)區(qū)（BDA）41、47號地塊，征地面積240030m2，其中41號地塊面積136754m2、47號地塊面積103 276m'，見圖2.

    2.環(huán)境質量

    本項目對芯片加工類的特征空氣污染物、地下水特征污染物和土壤特征污染物進行了監(jiān)測。環(huán)境空氣監(jiān)測了氟化物、氯化氫、氨氣、氯氣、硫酸霧、非甲烷總烴共6項；地下水環(huán)境監(jiān)測，W、B共2項；土壤監(jiān)測了砷（As）、硼（B）、氟（F）和鎢（W）共4項。通過監(jiān)測結果可以看出環(huán)境本底較好，沒有超標的污染項。

    3.廠址選擇合理性分析

    由于中國與發(fā)達國家相比，在關鍵技術如軟件、集成電路和新型元器件等方面相對落后，CPU芯片和存儲器的設計與制造能力薄弱，電訊、通訊市場將是首先受到入關沖擊的領域之一。因此，我國的信息產業(yè)政策中有很重要的一條，就是中國鼓勵外資進入信息產業(yè)，希望信息產業(yè)的外商投資企業(yè)進一步提高技術檔次，擴大投資規(guī)模。深亞微米工藝技術已是國際上的主流生產技術，本項目的實施可以推廣在國內微電子技術的升級發(fā)展，提高電子產品開發(fā)、生產，并會促進我國集成電路產業(yè)走向國際。因此，該項目的性質完全符合國家信息產業(yè)發(fā)展規(guī)劃和政策。本項目為高科技、高附加值的集成電路行業(yè)，項目地址位于北京市經濟技術開發(fā)區(qū)內。在北京市"十五"時期工業(yè)發(fā)展規(guī)劃的產業(yè)布局調整目標中明確指出："北京經濟技術開發(fā)區(qū)：建設成北京現代制造業(yè)的窗口基地"，該項目的選址符合北京市"十五"時期工業(yè)發(fā)展規(guī)劃的產業(yè)布局，與加速發(fā)展高新技術產業(yè)的發(fā)展方向高度是一致的。根據本項目的規(guī)模，可以確信，本項目是實現北京市"十五"時期工業(yè)發(fā)展規(guī)劃的極其重要的項目之一。